次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現均勻的霧狀放電，放電的電流電學特征為單脈沖，放電溫度為室溫。次大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設備成本低、處理的時間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。

規格:
1. 型號：
HPD-100A(空氣型）
HPD-100B(混合氣體型）
HPD-100C(混合氣體型）
2. 電源：單相AC220V（±10%）
3. 功率：500VA；
4. 電極尺寸：100mm×100mm；
5. 設備尺寸：620(W)×750(H)×450(D)mm
6. 設備重量：100kg
7. 腔體壓力：10~1000Pa