Silicon Genesis公司填補20um“無切損”光伏箔空白

SiGen的20um單晶硅光伏箔創(chuàng)晶片厚度新記錄

    美國商業(yè)資訊加利福尼亞州圣何塞消息  工程基片工藝和技術的領先者Silicon Genesis今天宣布，它已生產(chǎn)出首家20um厚度太陽能電池箔。研究發(fā)現(xiàn)，這種125毫米見方的單晶硅箔既耐用，又有很高的柔性。新形態(tài)既非薄膜，也非晶片，因而被命名為“箔”(foil)，以更好地描述這種薄、柔軟、獨立的材料的獨特物理特性。這一成就是SiGen公司PolyMax™無切損切片技術發(fā)展的重要里程碑。

    在20um太陽能電池箔結(jié)合了薄膜光伏電池多晶硅用量低和單晶硅光伏電池高效潛力的優(yōu)點。這都為大幅降低總生產(chǎn)成本創(chuàng)造了條件，從而可降低每瓦成本。預計該20um箔將把傳統(tǒng)的硅光伏電池吸收材料技術延伸到未來。該單晶硅箔是最近展示的試驗性地用流水線生產(chǎn)厚度150um和50um的原尺寸晶片連續(xù)開發(fā)的成果。這些試點能力正在用于開發(fā)大批量生產(chǎn)設備。

    20um單晶硅箔的推出將使光伏電池制造商能夠以具有成本效益的生產(chǎn)探索新的應用和形式。PolyMax 系統(tǒng)的無切損性質(zhì)有助于節(jié)省原料，以及使用更薄的單晶硅晶片和箔發(fā)展新產(chǎn)品類型。

    SiGen首席執(zhí)行官Francois Henley說：“我們的20um晶體硅箔技術的高效潛力為太陽能光伏產(chǎn)業(yè)創(chuàng)造了新的機會。20um箔的柔性便于發(fā)展多種應用，如光伏建筑一體化（BIPV）和柔性光伏電池。這增強了我的信心，即薄膜技術的采用將受到超薄的PolyMax技術的成本和性能優(yōu)勢的限制。”

    PolyMax系統(tǒng)概念和20um基片成果已在《光子》(PHOTON)雜志最近在德國慕尼黑舉辦的“第四屆光伏技術展”上展出。

關于SiGen
Silicon Genesis Corporation (SiGen) 是向半導體、顯示器、光電子器件和太陽能市場提供工程基片工藝技術的一家領先提供商。SiGen的技術用于生產(chǎn)“絕緣硅”(SOI) 半導體晶片，以用于高性能應用。SiGen通過薄膜工程來開發(fā)創(chuàng)新性的基片，為其客戶開辟新的應用和市場。在SiGen的客戶和合作伙伴中，不乏世界各地的頂尖基片和設備供應商。SiGen成立于1997年，總部位于美國加利福尼亞州圣何塞市。關于Silicon Genesis的更多信息，請訪問http://www.sigen.com。
圖片/多媒體庫見http://www.businesswire.com/cgi-bin/mmg.cgi?eid=5909193&lang=en